Extreme Ultra-violet
EUV lithography is described in detail
用于高端邏輯半導(dǎo)體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet,極紫外線光刻)曝光技術(shù)的未來(lái)藍(lán)圖逐漸“步入”我們的視野,從7nm階段的技術(shù)節(jié)點(diǎn)到今年(2019年,也是從今年開始),每2年~3年一個(gè)階段向新的技術(shù)節(jié)點(diǎn)發(fā)展…
Read More隨著三星Exynos 990和麒麟990移動(dòng)平臺(tái)的問(wèn)世,一種名為“7nm+EUV”的全新工藝登上了歷史舞臺(tái)…
Read MoreAI、5G應(yīng)用推動(dòng)芯片微縮化,要實(shí)現(xiàn)5nm、3nm等先進(jìn)制程,意味著需要更新穎的技術(shù)支援以進(jìn)行加工制造,半導(dǎo)體設(shè)備商遂陸續(xù)推出新一代方案…
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EUV lithography equipment market
根據(jù)外媒報(bào)導(dǎo),已經(jīng)多年蟬聯(lián)全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭的美商應(yīng)材公司(Applied Materials),2019年可能將其龍頭寶座,讓給以生產(chǎn)半導(dǎo)體制造過(guò)程中不可或缺曝光機(jī)的荷蘭ASML,原因是受惠即紫外光刻設(shè)備(EUV)的市場(chǎng)需求大增,進(jìn)一步拉抬了ASML的市占率表現(xiàn)…
光刻技術(shù)指利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理,將電路圖轉(zhuǎn)移到晶圓表面的工藝技術(shù),光刻機(jī)是光刻工序中的一種投影曝光系統(tǒng)。其包括光源、光學(xué)鏡片、對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)等。在制造過(guò)程中,通過(guò)投射光束,穿過(guò)掩膜板和光學(xué)鏡片照射涂敷在基底上的光敏性光刻膠…