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      2. 帶你了解摩爾定律的“續(xù)命神藥”—EUV(極紫外光刻)

        Extreme Ultra-violet

        詳述EUV光刻技術(shù)

        EUV lithography is described in detail

        全面起底ASML的EUV光刻技術(shù)

        用于高端邏輯半導(dǎo)體量產(chǎn)的EUV(Extreme Ultra-Violet,極紫外線光刻)曝光技術(shù)的未來(lái)藍(lán)圖逐漸“步入”我們的視野,從7nm階段的技術(shù)節(jié)點(diǎn)到今年(2019年,也是從今年開始),每2年~3年一個(gè)階段向新的技術(shù)節(jié)點(diǎn)發(fā)展…

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        “芯”希望來(lái)自新工藝!EUV和GAAFET技術(shù)是個(gè)什么鬼?

        隨著三星Exynos 990和麒麟990移動(dòng)平臺(tái)的問(wèn)世,一種名為“7nm+EUV”的全新工藝登上了歷史舞臺(tái)…

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        EUV光刻機(jī)將如何發(fā)展?

        AI、5G應(yīng)用推動(dòng)芯片微縮化,要實(shí)現(xiàn)5nm、3nm等先進(jìn)制程,意味著需要更新穎的技術(shù)支援以進(jìn)行加工制造,半導(dǎo)體設(shè)備商遂陸續(xù)推出新一代方案…

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        相關(guān)廠商動(dòng)態(tài)

        Related vendor dynamics

        面向3nm及以下工藝,ASML新一代EUV光刻機(jī)曝光

        很快,臺(tái)積電和三星的5nm工藝即將量產(chǎn),與此同時(shí),臺(tái)積電和三星的3nm工藝也在持續(xù)的研發(fā)當(dāng)中。而對(duì)于5nm及以下工藝來(lái)說(shuō),都必須依靠EUV(極紫外)光刻機(jī)才能實(shí)現(xiàn)…

        三星最先進(jìn)EUV產(chǎn)線投用:7nm產(chǎn)能今年增加兩倍

        當(dāng)前,有實(shí)力圍繞10nm以下先進(jìn)制程較量的廠商僅剩下Intel、臺(tái)積電和三星三家。2月20日,三星宣布,在韓國(guó)華城工業(yè)園新開一條專司EUV(極紫外光刻)…

        中芯國(guó)際稱7nm EUV光刻機(jī)問(wèn)題已解決 技術(shù)研發(fā)步入正軌

        在半導(dǎo)體工藝進(jìn)入10nm節(jié)點(diǎn)之后,制造越來(lái)越困難,其中最復(fù)雜的一步——光刻需要用到EUV光刻機(jī)了,而后者目前只有荷蘭ASML阿斯麥公司才能供應(yīng)…

        臺(tái)積電遇強(qiáng)大對(duì)手!6nm、7nm EUV開啟全面量產(chǎn),中國(guó)仍需努力!

        告別了諾基亞、HTC、黑莓等手機(jī),目前的智能手機(jī)陣營(yíng)也就是安卓和蘋果,而智能手機(jī)儼然就是人們的第二個(gè)精神生命,手機(jī)不離手已經(jīng)成為了一種現(xiàn)象…

        麒麟820處理器要來(lái),6納米+EUV工藝,手有技術(shù)氣自華!

        華為將于2月24日21:00舉行在線新品發(fā)布會(huì)。在疫情爆發(fā)期間,手機(jī)制造商選擇在網(wǎng)上舉行發(fā)布會(huì)。據(jù)悉,此次發(fā)布會(huì)的主題是“共同未來(lái)”…

        2021年ASML將推下一代EUV光刻機(jī) 面向2nm、1nm工藝

        作為全球唯一能生產(chǎn)EUV光刻機(jī)的公司,荷蘭ASML公司去年出售了26臺(tái)EUV光刻機(jī),主要用于臺(tái)積電、三星的7nm及今年開始量產(chǎn)的5nm工藝,預(yù)計(jì)今年出貨…

        EUV光刻設(shè)備市場(chǎng)

        EUV lithography equipment market

        EUV市場(chǎng)供不應(yīng)求,ASML或取代應(yīng)材登全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭

        根據(jù)外媒報(bào)導(dǎo),已經(jīng)多年蟬聯(lián)全球半導(dǎo)體設(shè)備龍頭的美商應(yīng)材公司(Applied Materials),2019年可能將其龍頭寶座,讓給以生產(chǎn)半導(dǎo)體制造過(guò)程中不可或缺曝光機(jī)的荷蘭ASML,原因是受惠即紫外光刻設(shè)備(EUV)的市場(chǎng)需求大增,進(jìn)一步拉抬了ASML的市占率表現(xiàn)…

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        2019年中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)現(xiàn)狀、行業(yè)格局及發(fā)展趨勢(shì)分析

        光刻技術(shù)指利用光學(xué)-化學(xué)反應(yīng)原理,將電路圖轉(zhuǎn)移到晶圓表面的工藝技術(shù),光刻機(jī)是光刻工序中的一種投影曝光系統(tǒng)。其包括光源、光學(xué)鏡片、對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)等。在制造過(guò)程中,通過(guò)投射光束,穿過(guò)掩膜板和光學(xué)鏡片照射涂敷在基底上的光敏性光刻膠…

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